Käytännössä monopoliasemaa EUV-litografiakoneissa pitävä ASML raportoi keskiviikkona Q2-tuloksensa, joka ylitti analyytikoiden odotukset selvästi liikevaihdon, bruttomarginaalin ja osakekohtaisen tuloksen osalta. Yhtiö myös nosti koko vuoden 2026 liikevaihto-ohjeistustaan reippaasti ja kertoi suunnitelmista kasvattaa EUV-kapasiteettiaan noin 30 %:lla vuonna 2027 sekä mahdollisesti toisella 30 %:lla vuonna 2028. Canatun näkökulmasta raportti on positiivinen, sillä edistyksellisimpien EUV-laitteiden kiihtyvä käyttöönotto on keskeisin ajuri yhtiön hiilinanoputkista valmistettavien pellicle-kalvojen kysynnälle.

Q2-tulos ylitti odotukset kaikilla keskeisillä mittareilla

ASML:n Q2-liikevaihto oli 9,3 miljardia euroa ja ylitti selvästi sekä analyytikoiden konsensusennusteen (8,8 mrd.€) että yhtiön oman ohjeistushaarukan (8,4–9,0 mrd.€). Bruttomarginaali oli 54,0 %, kun konsensusodotus oli 52,0 %. Osakekohtainen tulos oli 7,59 euroa ja ylitti konsensusennusteen (6,9 EUR) selkeästi. Ylityksen taustalla oli ennen kaikkea odotuksia vahvempi asennetun laitekannan liiketoiminta (palvelut ja päivitykset). Asiakkaat hakevat nykyisessä kysyntäympäristössä kaiken irti laitteidensa tuottavuudesta, ja iso osa päivityksistä on ohjelmistopohjaisia, mikä tukee myös bruttomarginaalia.

Q3:n liikevaihto-ohjeistus (11,0–12,0 mrd.€) ylitti konsensusennusteen (10,3 mrd.€) reilusti. Samalla yhtiö nosti koko vuoden 2026 liikevaihto-ohjeistuksensa 43–45 miljardiin euroon (aik. 36–40 mrd.€) ja odottaa bruttomarginaalin asettuvan 54–56 %:iin. Kyseessä on merkittävä ohjeistusnosto, jonka taustalla ovat tekoälyinvestointien vetämä kysyntä ja asiakkaiden kiihtyvät kapasiteettilaajennukset. Konsensusennuste odotti ennen raporttia tälle vuodelle noin 39,6 miljardin euron liikevaihtoa ja noin 52-53 %:n bruttomarginaalia. ASML odottaa edistyneen logiikan liikevaihtonsa kasvavan tänä vuonna noin 25 % ja muistiliikevaihtonsa noin 75 %. EUV-liiketoiminnan yhtiö odottaa kasvavan noin 45 % 65 Low NA EUV -laitteen toimitusten siivittämänä, ja asennetun laitekannan liiketoiminnan yli 30 %.

EUV-kapasiteettia nostetaan aggressiivisesti vuosina 2027–2028

Raportin mielenkiintoisin anti oli ASML:n kertoma pidemmän aikavälin kysyntäkuva. Asiakkaiden omien pitkien sopimusten tuoma poikkeuksellinen näkyvyys on kääntynyt erittäin vahvaksi tilausvirraksi alkuvuonna. Yhtiö on jo lähes saanut kaikki vuoden 2027 EUV-toimituksia vastaavat tilaukset ja merkittävän määrän tilauksia myös vuodelle 2028. Tämän myötä ASML kasvattaa Low NA EUV -kapasiteettiaan noin 30 % vuodelle 2027 (nykyiseltä n. 65 laitteen tasolta) ja selvittää vastaavaa 30 %:n lisäystä vuodelle 2028. Myös DUV-immersiokapasiteettia (n. 130 laitetta) suunnitellaan kasvatettavan 30 % vuonna 2027 ja mahdollisesti edelleen vuonna 2028. Lisäksi High NA EUV saavutti merkittävän virstanpylvään, kun Intel kertoi käyttävänsä teknologiaa nyt ensimmäisenä massatuotannossa edistyneimmissä tuotteissaan (18A-prosessin valikoidut kerrokset).

ASML:n kiihtyvät EUV-toimitukset kasvattavat Canatun kohdemarkkinaa

ASML:n uusimmat EUV-laitteet, joiden teho nousee yli 600 wattiin, ovat erityisen kiinnostavia Canatun liiketoiminnan näkökulmasta. Näiden laitteiden käyttö tuotantoprosessissa vaatii maskia suojaavia EUV pellicle -kalvoja, joita Canatun hiilinanoputkista voidaan valmistaa. Yli 600 watin laitteissa Canatun hiilinanoputkista valmistettujen pellicle-kalvojen ominaisuudet nousevat selvästi paremmiksi suhteessa perinteisiin komposiittikalvoihin, jotka eivät enää kunnolla kestä kovempaa lämpökuormitusta ja mekaanista rasitusta. Canatun patentoidulla menetelmällä tuotetut hiilinanoputket vaikuttavat ominaisuuksiltaan tähän tarkoitukseen kilpailijoita paremmilta, mikä antaa yhtiölle houkuttelevat lähtökohdat tavoitella merkittävää asemaa tällä markkinalla.

Q2-raportin viesti tukee tätä kuvaa entisestään: ASML:n suunnittelemat EUV-kapasiteetin laajennukset vuosille 2027–2028 osuvat juuri siihen ikkunaan, jolloin odotamme EUV pellicle -kalvojen kysynnän alkavan kasvaa voimakkaasti. Mitä enemmän ja mitä tehokkaampia EUV-laitteita asiakkaille toimitetaan, sitä suuremmaksi Canatun kohdemarkkina muodostuu. Myös High NA -teknologian eteneminen massatuotantoon kertoo edistyksellisimmän EUV-litografian edistymisestä. Canatun tavoitteiden mukaisesti odotamme pellicle-volyymien kasvavan merkittävään mittakaavaan vuosien 2029–2030 aikana.