Automatisk översättning: Ursprungligen publicerad på finska 2026-07-15 06:05 GMT. Ge feedback här.

ASML, som i praktiken har monopol på EUV-litografimaskiner, rapporterade på onsdagen sitt Q2-resultat, vilket tydligt överträffade analytikernas förväntningar gällande omsättning, bruttomarginal och vinst per aktie. Företaget höjde också sin omsättningsguidning för helåret 2026 avsevärt och meddelade planer på att öka sin EUV-kapacitet med cirka 30 % under 2027 och eventuellt med ytterligare 30 % under 2028. Ur Canatus perspektiv är rapporten positiv, då den accelererande implementeringen av de mest avancerade EUV-enheterna är den viktigaste drivkraften för efterfrågan på företagets pellikelmembran tillverkade av kolnanorör.

Q2-resultatet överträffade förväntningarna på alla nyckeltal

ASML:s Q2-omsättning uppgick till 9,3 miljarder euro och överträffade tydligt både analytikernas konsensusestimat (8,8 BNEUR) och företagets egen guidning (8,4–9,0 BNEUR). Bruttomarginalen var 54,0 %, medan konsensusförväntningen var 52,0 %. Vinsten per aktie uppgick till 7,59 euro och överträffade konsensusestimatet (6,9 EUR) tydligt. Bakom överträffelsen låg framför allt en starkare verksamhet för den installerade basen (tjänster och uppdateringar) än förväntat. Kunderna strävar efter att maximera produktiviteten från sin utrustning i den nuvarande efterfrågemiljön, och en stor del av uppdateringarna är mjukvarubaserade, vilket också stöder bruttomarginalen.

Q3-omsättningsguidningen (11,0–12,0 BNEUR) överträffade konsensusestimatet (10,3 BNEUR) med god marginal. Samtidigt höjde företaget sin omsättningsguidning för helåret 2026 till 43–45 BNEUR (tidigare 36–40 BNEUR) och förväntar sig en bruttomarginal på 54–56 %. Detta är en betydande höjning av guidningen, driven av efterfrågan från AI-investeringar och kunders accelererande kapacitetsutbyggnader. Konsensusestimatet före rapporten förväntade en omsättning på cirka 39,6 BNEUR och en bruttomarginal på cirka 52-53 % för detta år. ASML förväntar sig att omsättningen för avancerad logik kommer att växa med cirka 25 % i år och omsättningen för minnesprodukter med cirka 75 %. Företaget förväntar sig att EUV-affärsområdet kommer att växa med cirka 45 %, drivet av leveranser av 65 Low NA EUV-maskiner, och att affärsområdet för installerad bas kommer att växa med över 30 %.

EUV-kapaciteten ökas aggressivt under 2027–2028

Det mest intressanta i rapporten var ASML:s beskrivning av efterfrågebilden på längre sikt. Den exceptionella visibilitet som kundernas egna långa avtal medfört har resulterat i ett mycket starkt orderflöde under början av året. Företaget har redan nästan fått alla order motsvarande 2027 års EUV-leveranser och en betydande mängd order även för 2028. I och med detta ökar ASML sin Low NA EUV-kapacitet med cirka 30 % för 2027 (från nuvarande nivå på cirka 65 enheter) och undersöker en motsvarande ökning på 30 % för 2028. DUV-immersionskapaciteten (cirka 130 enheter) planeras också att ökas med 30 % under 2027 och eventuellt ytterligare under 2028. Dessutom nådde High NA EUV en betydande milstolpe när Intel meddelade att de nu är först med att använda tekniken i massproduktion för sina mest avancerade produkter (utvalda lager i 18A-processen).

ASML:s accelererande EUV-leveranser ökar Canatus målmarknad

ASML:s senaste EUV-maskiner, vars effekt överstiger 600 watt, är särskilt intressanta ur Canatus företagsperspektiv. Användningen av dessa maskiner i produktionsprocessen kräver maskskyddande EUV-pellikelmembran, vilka kan tillverkas av Canatus kolnanorör. I maskiner med över 600 watt blir egenskaperna hos pellikelmembran tillverkade av Canatus kolnanorör betydligt bättre i förhållande till traditionella kompositmembran, som inte längre klarar av den högre värmebelastningen och mekaniska påfrestningen. Kolnanorör producerade med Canatus patenterade metod verkar vara överlägsna konkurrenternas för detta ändamål, vilket ger företaget en attraktiv utgångspunkt för att sträva efter en betydande position på denna marknad.

Budskapet från Q2-rapporten förstärker denna bild ytterligare: ASML:s planerade utökningar av EUV-kapaciteten för åren 2027–2028 infaller precis i det fönster då vi förväntar oss att efterfrågan på EUV-pellikelmembran kommer att börja växa kraftigt. Ju fler och effektivare EUV-enheter som levereras till kunderna, desto större blir Canatus målmarknad. Även framstegen för High NA-teknologin till massproduktion vittnar om utvecklingen inom den mest avancerade EUV-litografin. I linje med Canatus mål förväntar vi oss att pellikelvolymerna kommer att växa till en betydande skala under åren 2029–2030.